纳米薄膜生长所需的原子级超光滑表面衬底  ，对表面粗糙度、位错形态和残余应力都有较高的要求^[1] 。在传统的机械式抛光方法中  ，主要依靠抛光盘与工件表面的直接接触来获取超光滑表面^S ,该方法不可避免地会给工件带来划伤  ，也会给亚表面造成损伤  ，难以满足衬底所需的要求 。液动压悬浮拋光是一种非接触式抛光方法^&],其抛光所需的加工中心需要较高的转速和精度 。这就需要该加工中心满足高精度、高刚度以及高抗振性的要求^[4 。本文对液动压悬浮抛光机床设计中考虑的某些设计过程进行讨论  ，并介绍该机床的控制与检测系统 。

1液动压飘浮拋光加工厂中的自动化机械格局设计的

1.1加工中心设计的功能和要求

液动压悬浮抛光属于非接触式拋光方法  ，主要针对纳米薄膜生长的铜衬底进行抛光加工  ，同时考虑还 ^[1]需要对硅片等光学电子元器件进行加工 。因此  ，对新研制的液动压悬浮抛光加工中心提出以下几个方面的功能和要求：

(1)在抛光液浸没抛光工具和工件的浸液j9九游会平台下  ，抛光工具的悬浮力源自液体动压所形成的上浮力 。因此  ，需要对上拋光盘进行一定的结构设计  ，使其可以实现上浮  。

(2)上下抛光盘可获得较高的转速且稳定运行 。因此  ，上抛光盘驱动部分采用伺服电动机驱动实现高精度、高转速的控制  ，下抛光盘通过变频器实现电动机的无级调速并通过调整变频器的参数实现加工过程的软启动和软停止^S ,达到抛光过程的稳定运行 。

(3)抛光时除了能实现固定间隙下的加工  ，也可以实现自由浮动的加工 。因此  ，上拋光盘需要实现沿轴向运动的功能外  ，且能通过液体粘度、抛光盘的转速和上抛光盘楔形结构的参数来调节悬浮力的大小  ，从而调高前后抛磁盘左右的粗加工摩擦 。

(4)     传感器能实现对上浮力、上浮高度、加工间隙的测量与数据采集  ，有一定的反馈补偿调节  ，实现拋光加工时的动态平衡 。因此  ，需要选用合适的传感器  ，在控制上采用PID的方法^[6]实现拋光加工的反馈补偿调节 。